推动荷兰禁止该国光刻设备制造商ASML出售有关技术给予大陆，以进一步遏止中国在半导体产业崛起！

  这一次还不只最先进的设备，还包括了上一代采用DUV技术的光刻机，其制造能力最高可以生产7nm制程的芯片。

  而可以制造5nm及以下制程芯片的EUV光刻机，早在两年前，就因为美国的施压而无法进口。

  就在当天上午，中国国务院副总理刘鹤刚与美财政部长耶伦举行视频通话。有必要注意一下的是，这次通话两次提到了“全球产业链供应链稳定”，并强调要共同维护，中方还表达了对美国取消对华加征关税和制裁、公平对待中国企业等问题的关切，并称这次“交流富有建设性”。

  据悉，美国政府的行动，早在一个多月前，美国商务部副部长唐·格雷夫 （Don Graves）访问荷兰时就已经开始。

  在访问行程中，格雷夫还专门拜访了阿斯迈尔的总部，并和阿斯迈尔首席执行官彼得·温宁克 （Peter Wennink）进行会面。

  同时还有消息显示，除了荷兰，日本政府同样受到了来自美国的压力，因为日本尼康同样掌握DUV光刻机制造能力。

  消息曝出之后，阿斯迈尔的美国存托凭证跌幅一度扩大到8.3%，截止到目前已经回落至3.87%。

  毕竟具备7nm以下制程芯片制造能力的EUV光刻机，早在2020年初，因为美国政府的压力而禁止出口到中国。

  至于更先进的EUV光刻机核心技术，现在还处在实验室的基础研发阶段，比如光刻胶原材料、EUV极紫外光源等等，何时能研发成熟投入商用，现在来看仍然是一个巨大的未知数。

  也就是说，一旦荷兰政府同意禁止出口，制程先进的高端芯片且不说，连7nm以上制程的芯片，包括大部分车规级芯片、以及一些消费类芯片，都将面临受制于人的命运。

  从彭博社曝出的消息来看，目前荷兰政府尚未同意，对阿斯迈尔向中国出口DUV光刻机有任何额外限制行动。

  与此同时，荷兰首相马克·吕特 （Mark Rutte）不久之前也在公开场合表示，反对改变与中国的贸易关系。

  而ASML这一边，虽然官方目前还没有实质性的回应，但其首席执行官温宁克也曾表明态度：

  从技术独立性上，ASML在DUV光刻机技术上底气更足，早在2003年，阿斯迈尔就已经推出自主研发的DUV光刻机，并借此在全球芯片制造产业上成为巨头。

  而ASML的EUV技术，则与美国和英特尔牵头成立的EUV LLC联盟有着千丝万缕的联系。

  所以与上次禁止出口EUV光刻机不同的是，ASML出口DUV光刻机到中国，无需美国的授权。

  测量台、曝光台：承载硅片的工作台，也就是双工作台。一般的光刻机需要先测量，再曝光，只需一个工作台，而ASML有个专利，有两个工作台，实现测量与曝光一起进行。而本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目则是在技术上突破ASML对双工件台系统的技术垄断。

  能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会极度影响成像质量。

  光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不一样的形状，不同的光束状态有不同的光学特性。

  能量探测器：检测光束最终入射能量是不是满足曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。

  物镜：物镜由20多块镜片组成，最大的作用是把掩膜版上的电路图按比例缩小，再被激光映射的硅片上，并且物镜还要补偿各种光学误差。技术难度就在于物镜的设计难度大，精度的要求高。

  硅片：用硅晶制成的圆片。硅片有多种尺寸，尺寸越大，产率越高。题外话，由于硅片是圆的，所以要在硅片上剪一个缺口来确认硅片的坐标系，根据缺口的形状不相同分为两种，分别叫flat、notch。

  内部封闭框架、减振器：将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持稳定的温度、压力。

  我国在光刻机方面的技术积累和人才储备相对不足，虽无法制造高端光刻机，但可以制造一些低、中端的光刻机。

  2008年起，我国开始重视光刻机的研发。为推动我们国家集成电路制造产业的发展，国家决定实施科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”项目（又称“02专项”）。在该项目下，我国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已经研制成功。

  2019年4月，武汉光电国家研究中心甘棕松团队通过2束激光，在自研的光刻胶上，突破光束衍射极限的限制，并使用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段。该成果一举实现光刻机材料、软件和零部件的三大国产化。

  2020年6月，上海微电子设备有限公司透露将在2021—2022年交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。这在某种程度上预示着国产光刻机工艺从以前的90纳米一举突破到28纳米。

  虽然国产28纳米光刻机与已面世的5纳米顶尖制程存在比较大差距，但常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、路由器上的芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片，仍采用28~90纳米工艺。

  在光刻工艺进入28纳米以下制程之后的较长一段时间里，16纳米和14纳米制程的成本一度高于28纳米，与摩尔定律的运行规律相反，这也使得28纳米制程工艺极具性价比。在实际应用中，28纳米光刻机不仅能用来生产28纳米芯片，更有望通过多重曝光的方式生产14纳米、10纳米、7纳米芯片。尽管我国自主光刻机与外国领先水平仍有不小代差，但未来可期。

  在公众号内回复您想搜索的任意内容，如问题关键字、技术名词、bug代码等，就能轻松获得与之相关的专业方面技术内容反馈。快去试试吧！

  如果您想常常看到我们的文章，能进入我们的主页，点击屏幕右上角「三个小点」，点击「设为星标」。

  Keysight 有奖直播 基于数字孪生的软件工具，助力射频子系统验证

  有奖直播 电气隔离新势力：英飞凌新型SSI系列固态隔离器的创新技术与应用设计

  Microchip mSiC™ 产品及其在电动出行中的典型应用方案 直播报名中

  有奖直播报名 英飞凌全新Wi-Fi 6单芯片SoC助力物联网产品的快速开发